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J-GLOBAL ID:201602257982070136   整理番号:16A0454188

CVA法を用いたta-C:H成膜に及ぼすパルスバイアスの影響

著者 (3件):
資料名:
巻: 133rd  ページ: 221  発行年: 2016年03月10日 
JST資料番号: Y0050A  ISSN: 0917-2947  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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その他の無機化合物の薄膜 
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