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J-GLOBAL ID：201602260686359816   整理番号：16A1279797

めっき液中の金属濃度がインプリント金型用Ni-W膜に与える影響

著者 (6件)： 安井学 (神奈川県産技セ) ,  黒内正仁 (神奈川県産技セ) ,  金子智 (神奈川県産技セ) ,  伊藤寛明 (青山学院大 理工) ,  小沢武 (神奈川県産技セ) ,  荒井政大 (名古屋大 大学院工学研究科)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集(CD-ROM)  (日本機械学会年次大会(CD-ROM))
巻： 2016  ページ： ROMBUNNO.J2240202  発行年： 2016年09月10日 
JST資料番号： X0587C  ISSN： 2424-2667  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,金属濃度がNi-W膜の表面粗さ(Ra)とW含有率に与える影響の原因を調べ,Ni-W膜のRaの改善とW含有率の上昇との両立の可能性を検討した。その結果,金属濃度の増加による水素発生の減少により,膜中のW含有率の低下は避けられないと考えられる。そのため,金属濃度を一定とし,陰極表面における吸着水素を除去してRaを改善する手法が必要である。(著者抄録)

シソーラス用語： *めっき液 ,  *金型 ,  ニッケル ,  タングステン ,  *表面粗さ ,  ラジウム ,  カソード ,  電流密度 ,  電着 ,  *濃度 ,  *皮膜 ,  *含有金属
準シソーラス用語： *インプリントリソグラフィー ,  *影響評価 ,  含有率 ,  水素発生

分類 (1件)： めっき一般  (WC08021T)

タイトルに関連する用語 (3件)： めっき液 ,  金型 ,  Ni