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J-GLOBAL ID：201602264264237822   整理番号：16A0535456

光開裂性基含有安定ニトリル-N-オキシド反応剤の合成とエラストマーの無触媒修飾

著者 (3件)： チアウチャン スミトラー (東京工大) ,  曽川洋光 (東京工大) ,  高田十志和 (東京工大)
資料名： 日本ゴム協会研究発表講演会講演要旨  (日本ゴム協会年次大会研究発表講演要旨集)
巻： 2016  ページ： 51  発行年： 2016年05月19日 
JST資料番号： L1478A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： フラグメンテーション ,  開裂反応 ,  ニトリルオキシド ,  *光環状付加 ,  基 ,  紫外線照射 ,  天然ゴム ,  *化学修飾 ,  *無触媒反応 ,  無溶媒反応 ,  光フラグメンテーション
準シソーラス用語： o-ニトロベンジル基 ,  光開裂

分類 (1件)： その他の高分子の反応  (CG03040H)

物質索引 (2件)： 2-(2-ニトロベンジルオキシ)ナフタレン-1-カルボニトリルオキシド ,  フェニルカルバミド酸1-[5-(トリメチルシリルメチル)-2-イソオキサゾリン-3-イル]-2-ナフチル

タイトルに関連する用語 (7件)： 光開裂 ,  ニトリル ,  N-オキシド ,  反応剤 ,  エラストマー ,  触媒 ,  修飾