特許

J-GLOBAL ID：201603008703404342

ナノインプリント用複製モールド

発明者： 中川 勝 ,  工藤 進平 ,  尹 哲民 ,  永瀬 康一 ,  久保 祥一
出願人/特許権者： 国立大学法人東北大学
代理人 (1件)： 家入 健
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-226695
公開番号（公開出願番号）：特開2013-086294
特許番号：特許第5879086号
出願日： 2011年10月14日
公開日（公表日）： 2013年05月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ナノインプリント用の複製モールドであって、 基体と、 前記基体上に形成され、主成分が無機ナノ粒子と樹脂からなり、表面に凹凸が形成された複製モールド構造体と、を具備し、 前記複製モールド構造体は、 押し込み弾性率が4000N/mm2以上、8500N/mm2未満であり、 線熱膨脹係数が10×10-5K-1未満であり、かつ、 365nmにおける透過率が70%以上である複製モールド。

IPC (3件)：

B29C 59/02 ( 200 6.01) ,  B29C 33/40 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (3件)：

B29C 59/02 B ,  B29C 33/40 ,  H01L 21/30 502 D

引用特許：

出願人引用 (1件)

• パターン形成用モールドの製造方法およびパターン形成用モールド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-039319   出願人：株式会社KRI