特許
J-GLOBAL ID:200903073730915872
パターン形成用モールドの製造方法およびパターン形成用モールド
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
籾井 孝文
, 山元 美佐
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-039319
公開番号(公開出願番号):特開2007-216501
出願日: 2006年02月16日
公開日(公表日): 2007年08月30日
要約:
【課題】基板と所望のパターンを有する凸部との密着性が良く耐久性に優れ、正確にパターン形成可能なパターン形成用モールドの製造方法およびパターン形成用モールドを提供すること。【解決手段】本発明のパターン形成用モールドの製造方法は、基板表面に、無機微粒子とヒドロキシスチレン系樹脂と光酸発生剤とを含むレジスト組成物で所望のパターンを有する凸部を形成する工程と、凸部を形成した基板表面に、ポリシラザンを含有する塗布液を塗布してハードコート層を形成する工程と、ハードコート層を形成した基板を焼成する工程とを含む。前記ヒドロキシスチレン系樹脂の配合量は、前記無機微粒子100重量部に対して5〜25重量部である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
基板表面に、無機微粒子とヒドロキシスチレン系樹脂と光酸発生剤とを含むレジスト組成物で所望のパターンを有する凸部を形成する工程と、
凸部を形成した基板表面に、ポリシラザンを含有する塗布液を塗布してハードコート層を形成する工程と、
ハードコート層を形成した基板を焼成する工程とを含み、
該ヒドロキシスチレン系樹脂の配合量は、該無機微粒子100重量部に対して5〜25重量部である、パターン形成用モールドの製造方法。
IPC (5件):
B29C 33/38
, G03F 7/40
, H01L 21/027
, G03F 7/039
, G03F 7/004
FI (6件):
B29C33/38
, G03F7/40
, H01L21/30 502D
, G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, G03F7/004 511
Fターム (26件):
2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC08
, 2H025FA29
, 2H025FA39
, 2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096BA20
, 2H096EA02
, 2H096HA01
, 2H096HA30
, 2H096JA04
, 4F202AA44
, 4F202AJ07
, 4F202AJ09
, 4F202CA01
, 4F202CA07
, 4F202CB01
, 4F202CB29
, 4F202CD23
, 4F202CD30
, 5F046AA28
引用特許:
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