特許
J-GLOBAL ID:201603014077982509
表面修飾基材の製造方法、接合体の製造方法、新規ヒドロシラン化合物および表面修飾基材
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鎌田 耕一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-535915
特許番号:特許第5924633号
出願日: 2015年03月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】 極性基が表面に存在する基材と、分子構造Aのケイ素原子に水素原子が結合したSi-H基を有するヒドロシラン化合物と、をボラン触媒の存在下で接触させ、前記基材と前記化合物との間で脱水素縮合反応を進行させることで、前記分子構造Aにより表面が修飾された前記基材を形成する工程を含む、表面修飾基材の製造方法。
IPC (11件):
C09K 3/00 ( 200 6.01)
, C07F 7/08 ( 200 6.01)
, C07F 7/10 ( 200 6.01)
, C07F 9/40 ( 200 6.01)
, C07F 19/00 ( 200 6.01)
, C07F 9/28 ( 200 6.01)
, B01J 31/02 ( 200 6.01)
, C07F 7/12 ( 200 6.01)
, C07F 17/02 ( 200 6.01)
, C07F 7/02 ( 200 6.01)
, C07F 15/02 ( 200 6.01)
FI (19件):
C09K 3/00 R
, C07F 7/08 CSP X
, C07F 7/08 C
, C07F 7/10 N
, C07F 7/10 G
, C07F 7/10 T
, C07F 7/08 J
, C07F 9/40 Z
, C07F 7/08 F
, C07F 7/08 H
, C07F 19/00
, C07F 7/08 S
, C07F 9/28
, B01J 31/02 Z
, C07F 7/12 R
, C07F 7/10 Q
, C07F 17/02
, C07F 7/02 C
, C07F 15/02
引用特許:
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