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J-GLOBAL ID：201702223127406011   整理番号：17A0272030

WO₃の局所電子状態および構造の超高速変化を調べるための高S/N比XAFS(X線吸収微細構造)

High S/N ratio XAFS to investigate ultrafast changes in the local electronic states and structures of WO₃

著者 (10件)： UEMURA Yohei (Inst. of Molecular Sci., Okazaki, JPN) ,  KIDO Daiki (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  WAKISAKA Yuki (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  NIWA Yasuhiro (High Energy Accelerator Res. Organization, JPN) ,  NOZAWA Shunsuke (High Energy Accelerator Res. Organization, JPN) ,  ADACHI Shinichi (High Energy Accelerator Res. Organization, JPN) ,  YOKOYAMA Toshihiko (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  OTANI Bunsho (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  TAKAKUSAGI Satoru (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  ASAKURA Kiyotaka (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名： KEK Progress Report (Web)  (KEK Progress Report (Web))
号： 2016-8  ページ： ROMBUNNO.211 (WEB ONLY)  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： U0583A  ISSN： 1344-6320  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電子状態 ,  XAFS ,  X線吸収微細構造