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J-GLOBAL ID：201702226425145530   整理番号：17A0463097

マスクアライナ応用のためのe-ビームリソグラフィーによる先端フォトマスク作製

Advanced photomask fabrication by e-beam lithography for mask aligner applications

著者 (5件)： WEICHELT T. (Friedrich Schiller Univ. Jena, Jena, DEU) ,  BOURGIN Y. (Friedrich Schiller Univ. Jena, Jena, DEU) ,  BANASCH M. (Vistec Electron Beam GmbH, Jena, DEU) ,  ZEITNER U. D. (Friedrich Schiller Univ. Jena, Jena, DEU) ,  ZEITNER U. D. (Fraunhofer Inst. Applied Optics and Precision Engineering, Jena, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10032  ページ： 1003204.1-1003204.5  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子ビームリソグラフィーによるフォトマスク作製技術を述べた。電子ビームリソグラフィーは,フォトマスクの作製にとって,とくに,マスクアライナ応用にとっての第一の選択である。したがって,フォトマスクにおける回折構造が,分解能増倍技術として不可欠となる。文字投影露光領域による可変形状ビーム書き込み原理の拡張は,各種光学的応用,単にフォトマスクだけでなく,フォトニック結晶あるいはメタ材料のための高分解能ナノパターンに対する高フレキシブルな作製技術を提供する。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *電子ビームリソグラフィー ,  電子回折 ,  分解能 ,  *ビーム ,  *フォトニック結晶 ,  人工材料 ,  Fresnelレンズ
準シソーラス用語： *アライナ ,  メタ材料 ,  *可変形状ビーム

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (7件)： マスク ,  アライナ ,  応用 ,  ビーム ,  リソグラフィー ,  フォトマスク ,  作製