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J-GLOBAL ID：201702228043396580   整理番号：17A0203766

N_2/Ar放電のための大面積容量結合プラズマの均一性に及ぼす誘電材料の影響【Powered by NICT】

Influence of dielectric materials on uniformity of large-area capacitively coupled plasmas for N_2/Ar discharges

著者 (3件)： Liang Yingshuang (School of Physics and Optoelectronic Technology, Dalian University of Technology) ,  Zhang Yuru (School of Physics and Optoelectronic Technology, Dalian University of Technology) ,  Wang Younian (School of Physics and Optoelectronic Technology, Dalian University of Technology)
資料名： Chinese Physics B  (Chinese Physics B)
巻： 25  号： 10  ページ： 105206-1-105206-8  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1539A  ISSN： 1674-1056  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマ半径方向均一性に及ぼす誘電体リングの影響を二次元自己無撞着流体モデルによる実際の50 mm容量結合プラズマ反応器において数値的に調べた。シミュレーションは,圧力300Pa,13.56MHzの周波数でN_2/Ar放電を行った。実用的なプラズマ処理プロセスにおいて,ウエハは常に誘電体リング,について研究した小さいによって囲まれている。本論文では,プラズマ特性は誘電体リング,すなわち,相対誘電率,厚さと長さの特性を変えることにより系統的に調べた。結果は,プラズマパラメータを誘電体リングの性質に強く依存することを示した。誘電体リングの相対的誘電率に対する厚さの比が増加すると,ウエハエッジにおける電場は強い表面帯電効果のために弱くなる。これはウエハエッジでの低いN_2 +イオン密度,フラックスおよびN原子の密度を生じさせた。均一プラズマ密度は最適誘電体リング相対誘電率と膜厚を選択することによって得られた。添加では,誘電体リングの長さは誘電体材料の不連続性を避けることができるほどの短さであり,大面積均一プラズマを得るべきであることを見出した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： イオン密度 ,  *プラズマ ,  プラズマ密度 ,  プラズマ処理 ,  半径方向 ,  電場 ,  膜厚 ,  誘電体 ,  不連続性 ,  誘電率 ,  二次元
準シソーラス用語： プラズマリアクタ ,  *容量結合 ,  *容量結合プラズマ ,  *大面積 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 容量N_2/Ar放電 ,  流体シミュレーション ,  誘電材料 ,  プラズマ径方向均一性

分類 (2件)： 表示機器  (NC06030Q) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： Ar ,  放電 ,  大面積 ,  容量結合プラズマ ,  均一性 ,  誘電材料