文献

J-GLOBAL ID：201702230754506530   整理番号：17A0126608

ガラスインプリント用Ni-W電鋳金型上のNi-Wパターンの微細化に関する研究

著者 (6件)： 安井学 (神奈川県産技セ) ,  伊藤寛明 (青山学院大 理工) ,  金子智 (神奈川県産技セ) ,  黒内正仁 (神奈川県産技セ) ,  小沢武 (神奈川県産技セ) ,  荒井政大 (名古屋大 大学院工学研究科)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集(CD-ROM)  (日本機械学会年次大会(CD-ROM))
巻： 2014  ページ： ROMBUNNO.J2220101  発行年： 2014年09月06日 
JST資料番号： X0587C  ISSN： 2424-2667  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,ガラスに対して離型性に優れたW基板上にNi-W製サブミクロンパターンを作製する予備実験としてフォトリソグラフィを用いたNi-Wパターンの微細化について検討した。その結果,W基板上に10μm周期のSU8パターンを形成できた。ただし,Ni-Wパターンの形状に影響を与える可能性があるSU8の残渣を抑制しなければならない。また,Ni-Wパターンの微細化においては,膨潤剥離に代わる新たなSU8の剥離方法が必要である。(著者抄録)

シソーラス用語： *電鋳 ,  *金型 ,  *パターン形成 ,  *精密化 ,  基板 ,  タングステン ,  *フォトリソグラフィー ,  剥離
準シソーラス用語： *パターン化 ,  *微細化

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： Ni ,  電鋳 ,  金型 ,  微細化 ,  研究