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J-GLOBAL ID：201702236446835628   整理番号：17A0700440

マトリックス支援レーザ脱離/イオン化質量分析におけるポリフェノールの検出のための新規マトリックスとしての光塩基発生剤ニフェジピン【Powered by NICT】

The photobase generator nifedipine as a novel matrix for the detection of polyphenols in matrix-assisted laser desorption/ionization mass spectrometry

著者 (4件)： Nguyen Huu-Nghi (Department of Bioscience and Biotechnology, Faculty of Agriculture, Graduate School, Kyushu University, 6-10-1 Hakozaki, Fukuoka, 812-8581, Japan) ,  Tanaka Mitsuru (Department of Bioscience and Biotechnology, Faculty of Agriculture, Graduate School, Kyushu University, 6-10-1 Hakozaki, Fukuoka, 812-8581, Japan) ,  Komabayashi Genki (Department of Bioscience and Biotechnology, Faculty of Agriculture, Graduate School, Kyushu University, 6-10-1 Hakozaki, Fukuoka, 812-8581, Japan) ,  Matsui Toshiro (Department of Bioscience and Biotechnology, Faculty of Agriculture, Graduate School, Kyushu University, 6-10-1 Hakozaki, Fukuoka, 812-8581, Japan. [e-mail])
資料名： Journal of Mass Spectrometry  (Journal of Mass Spectrometry)
巻： 51  号： 10  ページ： 938-946  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0604A  ISSN： 1076-5174  CODEN： JMSPFJ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マトリックス支援レーザ脱離/イオン化質量分析(MALDI MS)はイオン性化合物の検出と分析のための広く用いられている。しかし,この方法は,中性化合物の分析,多価フェノールのような少ない可能性を持っている,良好なプロトン付着または除去基の欠如によるものであった。本研究では,著者らは,重合で一般的に使用される強い光塩基発生剤であるニフェジピン(2,6-ジメチル-3,5-dicarbomethoxy-4-(2-ニトロフェニル)-1,4-ジヒドロピリジン)は,負モードMALDI実験における中性化合物からプロトンを抽出できることを初めて報告した。ニフェジピン(5 mg/ml)は,マトリックス試薬として用いたとき,限界エピガロカテキン-3-O-ガラート(EGCG)の検出限界(LOD)は100fmol/スポット,ポリフェノール検出のための以前に報告されたマトリックス試薬,trans 3 インドールアクリル酸を用いた場合に得られたLODと比較して>50倍改善を構成すると決定した。調査したジヒドロピリジンの,ニフェジピンのみがEGCGの検出を容易にし,355nmでのレーザ照射下で光還元により形成されたニフェジピンのニトロソフェニルピリジン誘導体は,負モードでのポリフェノールの検出に決定的な役割を果たすことを示唆した。5 O メチルナリンゲニンの減少したMS検出はニフェジピンはフラボノイド骨格のA環の5位OH基からプロトンを除去優先的に可能性があることを示した。ニフェジピンによる有意なMS検出は,フラボン,フラボノン,カルコン,スチルベノイド及びフェノール酸を含むポリフェノールで観察された。結論として,ニフェジピンは,負モードでのMALDI-MSによるポリフェノール検出を改善するための新しいマトリックスとして用いることができる。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *光塩基発生剤 ,  付着 ,  *MALDI-MS ,  検出限界 ,  レーザ照射 ,  重合 ,  *多価フェノール ,  *検出 ,  光還元 ,  陽子 ,  フラボノイド ,  脂肪族カルボン酸 ,  ビニル化合物 ,  不飽和カルボン酸 ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  芳香族ニトロ化合物 ,  カルボン酸エステル ,  カルシウム拮抗薬
準シソーラス用語： 中性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ニフェジピン ,  マトリックス試薬 ,  MALDI ,  ポリフェノール ,  光塩基発生器

分類 (2件)： 有機化合物の物理分析  (CC03034A) ,  質量分析  (CC03013N)

物質索引 (3件)： アクリル酸 ,  インドール ,  ニフェジピン

タイトルに関連する用語 (9件)： マトリックス ,  支援 ,  レーザ ,  脱離 ,  イオン化 ,  質量分析 ,  ポリフェノール ,  光塩基発生剤 ,  ニフェジピン