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J-GLOBAL ID：201702239650104126   整理番号：17A0233566

トレンチ構造を有する柔軟な表示装置におけるポリイミド膜のドライエッチング特性の検討

A Study of Dry Etching Characteristics of Polyimide Films in Flexible Displays with Trench Structures

著者 (7件)： LEE Young Jun (Korea Aerospace Univ., Goyang-si, KOR) ,  OH Seon-Geun (Korea Aerospace Univ., Goyang-si, KOR) ,  KIM Byeong Jun (Korea Aerospace Univ., Goyang-si, KOR) ,  KIM Hong-Sik (Korea Aerospace Univ., Goyang-si, KOR) ,  JEON Jae-Hong (Korea Aerospace Univ., Goyang-si, KOR) ,  SEO Jong-Hyun (Korea Aerospace Univ., Goyang-si, KOR) ,  CHOE HeeHwan (Korea Aerospace Univ., Goyang-si, KOR)
資料名： Science of Advanced Materials  (Science of Advanced Materials)
巻： 8  号： 4  ページ： 851-853  発行年： 2016年04月 
JST資料番号： W2374A  ISSN： 1947-2935  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,TFT構造に適用する新しいプロセスを提案した。ポリイミド(PI)膜上の配線レイアウトをドライエッチングした後に配線を堆積した。柔軟な基板のドライエッチング特性およびトレンチに対するそれらの適合性を,容量結合プラズマ反応性イオンエッチャー(CCP-RIE)を用いて調査した。SF₆/O₂/Arプラズマを用いて基板のエッチング速度を求めた。PI膜のエッチング速度は,FおよびO₂の含有量の関数であった。エッチングプロセスの最適イオン比は約8(F):2(O₂)であった。

シソーラス用語： *坑道 ,  *溝 ,  柔軟性 ,  表示装置 ,  *ポリイミド ,  *ドライエッチング ,  プラズマ ,  薄膜トランジスタ
準シソーラス用語： TFT【トランジスタ】 ,  *トレンチ ,  容量結合プラズマ

分類 (2件)： トランジスタ  (NC03070N) ,  表示機器  (NC06030Q)

タイトルに関連する用語 (3件)： トレンチ ,  ポリイミド膜 ,  エッチング特性