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J-GLOBAL ID：201702247013231211   整理番号：17A0617135

熱電冷却デバイス用のブラシプリントp型Bi_0.5Sb_1.5Te₃厚膜の作製とキャラクラリゼーション

Fabrication and Characterization of Brush-Printed p-Type Bi_0.5Sb_1.5Te₃ Thick Films for Thermoelectric Cooling Devices

著者 (10件)： WU Han (Wuhan Univ. Technol., Wuhan, CHN) ,  LIU Xing (Wuhan Univ. Technol., Wuhan, CHN) ,  WEI Ping (Wuhan Univ. Technol., Wuhan, CHN) ,  ZHOU Hong-Yu (Wuhan Univ. Technol., Wuhan, CHN) ,  MU Xin (Wuhan Univ. Technol., Wuhan, CHN) ,  HE Dan-Qi (Wuhan Univ. Technol., Wuhan, CHN) ,  ZHU Wan-Ting (Wuhan Univ. Technol., Wuhan, CHN) ,  NIE Xiao-Lei (Wuhan Univ. Technol., Wuhan, CHN) ,  ZHAO Wen-Yu (Wuhan Univ. Technol., Wuhan, CHN) ,  ZHANG Qing-Jie (Wuhan Univ. Technol., Wuhan, CHN)
資料名： Journal of Electronic Materials  (Journal of Electronic Materials)
巻： 46  号： 5  ページ： 2950-2957  発行年： 2017年05月 
JST資料番号： D0277B  ISSN： 0361-5235  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： テルル化ビスマス合金は,常温で優れた熱電特性を示すため,可搬型や着用可能な冷却装置に使用する熱電材料として有望である。本論文は,簡単に低価格で熱電材料を作成するためにブラシプリント法を採用した。15mm×3mm×100~150μmのBi₂Te₃ベースの厚膜およびミニチュアプロトタイプ熱電デバイスをブラシプリント法およびその後のアニール処理によって作製した。各種のアニーリング温度でp型Bi_0.5Sb_1.5Te₃厚膜を作製し,組成,微細構造,および電気的性質を調べた。最大力率は,673°Cで4時間のアニーリングの時0.15mWK^-2m^-1であった。プロトタイプ熱電デバイスを,Al₂O₃基板にCu厚膜電極を用いてp型Bi_0.5Sb_1.5Te₃厚膜およびBi₂Te_2.7Se_0.3厚膜を接続することで作製し,電流印加による温度差の測定によって冷却性能を評価した。

シソーラス用語： *冷却 ,  *アンチモン化合物 ,  *テルル化物 ,  *ビスマス化合物 ,  厚膜 ,  印刷 ,  *携帯型 ,  焼なまし ,  性能 ,  能力
準シソーラス用語： *熱電冷却 ,  *テルル化ビスマスアンチモン ,  *装着型 ,  冷却性能

分類 (2件)： 熱電デバイス  (NC03090J) ,  熱交換器,冷却器  (PA03020G)

タイトルに関連する用語 (4件)： 熱電冷却 ,  ブラシ ,  厚膜 ,  作製