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J-GLOBAL ID：201702250167949643   整理番号：17A0833448

非電気的ポーリングホスト-ゲストNLO高分子におけるSiO_2表面上のプッシュ-プル発色団の化学吸着の役割【Powered by NICT】

The role of chemisorption for push-pull chromophores on SiO₂ surfaces in non-electrically poling host-guest NLO polymers

著者 (11件)： Sugita Atsushi (Faculty of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan) ,  Ito Kazuma (Faculty of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan) ,  Sato Yasuaki (Faculty of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan) ,  Suzuki Ryota (Faculty of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan) ,  Sato Kohei (Faculty of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan) ,  Narumi Tetsuo (Faculty of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan) ,  Mase Nobuyuki (Faculty of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan) ,  Takano Yasushi (Faculty of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan) ,  Matsushita Tomonori (Research Center for Advanced Science and Technology, The University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro-ku, Tokyo, 153-8904, Japan) ,  Tasaka Shigeru (Faculty of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan) ,  Kawata Yoshimasa (Faculty of Engineering, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8561, Japan)
資料名： Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry  (Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry)
巻： 340  ページ： 35-45  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0721B  ISSN： 1010-6030  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 何十年もの間,ホスト-ゲスト非線形光学(NLO)ポリマは,それらの多能性のために,研究した。ゲスト発色団を無作為にホスト高分子における配向している,それらは中心対称ためNLO高分子は,作製したままの条件における二次非線形性を示さなかった。ポリ(メタクリル酸メチル)中の電子受容性トリシアノフラン基と電子供与性フェニルアミン誘導体によって橋かけされたπ共役フェニレンビニレンから成ることをプッシュ-プルゲスト発色団の非電気ポーリング挙動を報告した。フェニルアミン部分は,ヒドロキシルあるいはカルボキシル基で置換した場合,第二高調波発生(SHG)の放出増強は外部電場の不在下でホスト高分子のガラス転移点以上の温度でのアニーリング後に観察された。ヒドロキシルまたはカルボキシル基の数は発色団の極性秩序度に及ぼす重要な影響を及ぼした。発色団の配向挙動はヘテロダインSHG,偏光線形吸収と偏光SHG分光法を用いて調べた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 線形性 ,  非線形性 ,  *高分子 ,  規則度 ,  *ポーリング ,  ガラス転移点 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  *発色団 ,  カルボキシ基 ,  焼なまし ,  *化学吸着 ,  偏光 ,  第二高調波発生 ,  対称性 ,  極性

著者キーワード (3件)： ホスト-ゲストNLO重合体 ,  ゲスト発色団の極性秩序化 ,  SHG分光法

分類 (2件)： 有機化合物のルミネセンス  (BM08094A) ,  光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (6件)： ポーリング ,  高分子 ,  プッシュ ,  発色団 ,  化学吸着 ,  役割