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J-GLOBAL ID：201702254460972988   整理番号：17A0575056

ポリスチレン-b-ポリ(炭酸プロピレン)の熱アニーリングによる化学パターン上の誘導自己組織化を用いる次世代リソグラフィー

Directed Self-Assembly of Polystyrene-b-poly(propylene carbonate) on Chemical Patterns via Thermal Annealing for Next Generation Lithography

著者 (12件)： YANG Guan-Wen (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  WU Guang-Peng (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  CHEN Xuanxuan (Univ. Chicago, Illinois, USA) ,  XIONG Shisheng (Univ. Chicago, Illinois, USA) ,  XIONG Shisheng (Argonne National Lab., Illinois, USA) ,  ARGES Christopher G. (Louisiana State Univ., Louisiana, USA) ,  JI Shengxiang (Changchun Inst. Applied Chemistry, Chinese Acad. Sci., Changchun, CHN) ,  NEALEY Paul F. (Univ. Chicago, Illinois, USA) ,  NEALEY Paul F. (Argonne National Lab., Illinois, USA) ,  LU Xiao-Bing (Dalian Univ. Technol., Dalian, CHN) ,  DARENSBOURG Donald J. (Texas A&M Univ., Texas, USA) ,  XU Zhi-Kang (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
資料名： Nano Letters  (Nano Letters)
巻： 17  号： 2  ページ： 1233-1239  発行年： 2017年02月 
JST資料番号： W1332A  ISSN： 1530-6984  CODEN： NALEFD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ブロック共重合体(BCP)の誘導自己組織化(DSA)は通常のフォトリソグラフィーと高分子材料の利点を組合せ,であり,半導体およびデータ貯蔵応用に有用である。しかし,エレクトロニクスにおける集積度の増大,小型化および高性能化に駆動されて,工業標準であるポリスチレン-b-ポリメタクリル酸メチル(PS-b-PMMA)を用いるDSA戦略は固有のFlory-Huggins相互作用パラメータ(χ)の限界によりリソグラフィー技術の迅速な発展に適合できなくなっている。数百のブロック共重合体が開発されているが,これらのBCPシステムは通常高いχと熱処理のトレードオフにより,現在のナノ製造組立プロセスに不適当となって来た。本報はポリスチレン-b-ポリ炭酸プロピレン(PS-b-PPC)が次世代リソグラフィーのDSA戦略の重要な位置を占めることを見出した。PS-b-PPCのχ推算値は0.079で,PS-b-PMMA(150°Cにおいてχ=0.029)の二倍と大きく,一方工業的に好ましい熱処理による垂直のサブ10nm形状(円筒およびラメラ)の形成能力を持つ。化学エピタキシャル密度多重化におけるPS-b-PPCのDSAラメラ形成は大面積パターニングによるナノ作製技術においてサブ10nm長距離秩序特性を実証した。工業的なインフィルトレーションシーケンス合成によるケイ素基板へのパターン移動をあわせて組込んだ。高いχ値(溶媒アニーリング,中性トップコート,化学修飾を含む)による配向制御の従来報告されている方法と比べて,PS-b-PPCは調製が容易で高いχ値をもち,エッチング選択性および熱処理耐久性をもち,ナノリソグラフィー分野における有用な先進技術候補であることを実証した。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *ジブロック共重合体 ,  *ポリスチレン ,  *脂肪族ポリカーボネート ,  熱処理 ,  *自己組織化 ,  Flory-Huggins理論 ,  長範囲規則度 ,  エッチング ,  選択性 ,  耐久性 ,  分子配向 ,  表面エネルギー ,  *交互共重合 ,  遷移金属触媒 ,  Schiff塩基錯体 ,  コバルト錯体 ,  二酸化炭素 ,  環状エーテル ,  酸素複素環化合物 ,  無機酸エステル
準シソーラス用語： コバルト触媒 ,  *ポリ炭酸プロピレン ,  化学選択性 ,  長距離秩序 ,  熱アニーリング ,  配向制御

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  共重合  (CG04030D)

物質索引 (4件)： プロピレンオキシド ,  炭酸プロピレン ,  2,2′-[1,2-シクロヘキサンジイルビス(ニトリロメチリジン)]ビス(4,6-ジ-tert-ブチルフェノール) ,  ビス(トリフェニルホスホラニリデン)イミニウム

タイトルに関連する用語 (8件)： ポリスチレン ,  炭酸プロピレン ,  熱アニーリング ,  化学 ,  誘導 ,  自己組織化 ,  次世代 ,  リソグラフィー