文献

J-GLOBAL ID：201702255291267131   整理番号：17A0463099

並列多重ビームマスク描画方法とデータ量に及ぼすその影響

A Parallel Multibeam Mask Writing Method and Its Impact on Data Volumes

著者 (3件)： CHAUDHARY N. (Texas A&M Univ., TX, USA) ,  LUO Y. (Texas A&M Univ., TX, USA) ,  SAVARI S. A. (Texas A&M Univ., TX, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10032  ページ： 1003206.1-1003206.9  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 無損失データ圧縮及びそのアドレス部分へのシステム並列化を研究した。簡単な圧縮アルゴリズム,及び多重ビームシステムアーキテクチャにおける全圧縮データに及ぼす並列化の影響を追求した。ここに,各ビームがそれ自身のデコーダをもつ場合に焦点を当て,同期問題を考察しなかった。ビデオデコーディングも,同期問題を処理しなければならないことが分かった。512×511ビームを有するアレイに関して,各デコーダが多重ビームのデータを処理するような通信アーキテクチャを考察することは実現可能であろう。

シソーラス用語： *マスク ,  *データ書込 ,  *データ圧縮 ,  *並列化 ,  復号器 ,  同期 ,  データ処理 ,  *電子ビームリソグラフィー ,  空間フィルタリング ,  パターン形成 ,  補正
準シソーラス用語： *直接描画 ,  近接効果補正

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (5件)： 多重 ,  ビーム ,  マスク ,  描画 ,  データ量