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J-GLOBAL ID：201702259817152675   整理番号：17A0463115

大量製造に適したナノインプリントトレンチのクリティカルディメンション一様性の評価

Critical Dimension Uniformity characterization of nanoimprinted trenches for high volume manufacturing qualification

著者 (10件)： TEYSSEDRE H. (LETI, CEA, Grenoble, FRA) ,  LANDIS S. (LETI, CEA, Grenoble, FRA) ,  THANNER C. (EV Group E. Thallner GmbH, St. Florian am Inn, AUT) ,  SCHAUER V. (EV Group E. Thallner GmbH, St. Florian am Inn, AUT) ,  LAURE M. (EV Group E. Thallner GmbH, St. Florian am Inn, AUT) ,  ZORBACH W. (EV Group E. Thallner GmbH, St. Florian am Inn, AUT) ,  PAIN L. (LETI, CEA, Grenoble, FRA) ,  BOS S. (LETI, CEA, Grenoble, FRA) ,  EIBELHUBER M. (EV Group E. Thallner GmbH, St. Florian am Inn, AUT) ,  WIMPLINGER M. (EV Group E. Thallner GmbH, St. Florian am Inn, AUT)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10032  ページ： 100320M.1-100320M.7  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノインプリント基板上で遂行したクリティカルディメンション一様性(CDU)分析は,SmartNILプロセスにより複製した簡単な設計の仕様の大域的な挙動を捉えることを可能にした。材料処方及び照射条件により,平均CDの進展は,プロセスの初期段階において高感度で修正され,同一スタンプのインプリントの結果として得られる体積をわずかに改善した。シフトが,装置感度よりはるかに低いので数インプリントでは捉えられない,実際には低い増加を明らかにすることができた。さらに,結果は,一様性が,平均CD値よりより感度の低い3シグマ値で容易に保存されることを示した。

シソーラス用語： *パターン転写 ,  *押付成形 ,  *溝 ,  *長さ ,  *均一性 ,  感度 ,  トレンチカット【加工】 ,  *リソグラフィー ,  パターン形成 ,  大量生産 ,  溝加工
準シソーラス用語： *クリティカルディメンジョン ,  CD均一性 ,  *ナノインプリントリソグラフィー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 大量製造 ,  クリティカルディメンション ,  一様性 ,  評価