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J-GLOBAL ID：201702265247950643   整理番号：17A0002399

Au-Si液相による気液固法を利用するSi上のβ-FeSi₂のMOCVD成長

MOCVD growth of β-FeSi₂ on Si via vapor-liquid-solid method using Au-Si liquids phase

著者 (2件)： AKIYAMA K. (Kanagawa Industrial Technol. Center, Kanagawa, JPN) ,  FUNAKUBO H. (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proceedings of International Symposium on Dry Process)
巻： 37th  ページ： 129-130  発行年： 2015年 
JST資料番号： Y0378B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 液相 ,  気液固反応 ,  ケイ素 ,  ケイ化物 ,  鉄化合物 ,  金 ,  *MOCVD ,  *薄膜成長 ,  共晶 ,  *金属薄膜

分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： Au ,  Si ,  液相 ,  気 ,  MOCVD ,  成長