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J-GLOBAL ID：201702267396996179   整理番号：17A0736876

高周波放電プラズマによるSIC表面へのメタクリル酸メチルのグラフト重合によるメタクリル酸メチルのグラフト重合【JST・京大機械翻訳】

High frequency discharge plasma induced grafting of PMMA onto silicon carbide powder

著者 (4件)： WEI Gang (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences) ,  ZHONG Shao-feng (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences) ,  MENG Yue-dong (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences) ,  SHU Xing-sheng (Institute of Plasma Physics, Chinese Academy of Sciences)
資料名： Cailiao Kexue yu Gongyi  (Cailiao Kexue yu Gongyi)
巻： 17  号： 1  ページ： 105-109  発行年： 2009年 
JST資料番号： W1162A  ISSN： 1005-0299  CODEN： CKGOEY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 高周波放電プラズマ窒素表面処理によりナノSIC粉末を処理し,炭化ケイ素表面上にメタクリル酸メチル単量体グラフト重合を開始し,ナノSIC表面上に保護膜を形成した。FOURIER変換赤外分光法(FTIR),X線光電子分光法(XPS),熱重量分析(TGA)により,この重合膜がSIC表面に化学結合し,X線回折(XRD)により,表面改質炭化ケイ素粉末がその表面特性により変化することを示した。結晶構造は変化しなかった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  *グラフト共重合 ,  X線光電子スペクトル ,  熱重量分析 ,  *HF【周波数】 ,  保護膜 ,  *高周波放電 ,  高分子膜 ,  粉体 ,  表面性状 ,  *プラズマ ,  化学結合 ,  炭化ケイ素 ,  X線光電子分光法 ,  脂肪族カルボン酸 ,  オレフィン化合物 ,  不飽和カルボン酸 ,  カルボン酸エステル
準シソーラス用語： *放電プラズマ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： plasma ,  graft polymerization ,  SiC nanoparticle ,  PMMA

分類 (1件)： 共重合  (CG04030D)

物質索引 (1件)： メタクリル酸メチル

タイトルに関連する用語 (5件)： 高周波 ,  放電プラズマ ,  SiC ,  メタクリル酸メチル ,  グラフト重合