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J-GLOBAL ID:201702272049774773   整理番号:17A0364020

熱白金薄膜の電気抵抗率に及ぼすイオンビーム散乱の影響【Powered by NICT】

Influence of ion beam scattering on the electrical resistivity of platinum hot films
著者 (7件):
資料名:
巻: 166  ページ: 15-18  発行年: 2016年 
JST資料番号: C0406B  ISSN: 0167-9317  CODEN: MIENEF  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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白金熱フィルムは,カーボンナノチューブとグラフェンの熱伝導率を測定するための正確な抵抗温度計として使用されてきた。集束イオンビーム(FIB)照射により支援され,フォノン輸送に及ぼす欠陥の影響を調べた。しかし,広い横方向イオンビーム散乱は熱フィルムの電気的性質に影響し,不確実性を引き起こす可能性がある。熱白金薄膜の電気抵抗率に及ぼすFIB照射の影響を評価した。この効果を定性的に調べるために,電気抵抗率測定とFIB照射は照射位置と線量を変えながら交互にした。照射イオンは直接照射領域から離れた25μmよりも伝播することを見出し,全蓄積線量による膜の電気抵抗率の増加をもたらした。散乱イオンの数は,照射された表面に依存することが分かった。熱フィルムの電気抵抗率と仮定したイオン密度の間の関係を記述する経験式を提案した。得られた結果は,FIBを用いたナノ加工技術と組み合わせた熱膜センサを用いたナノ材料の熱的,あるいは電気的特性を正確に推定することができた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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