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J-GLOBAL ID：201702279927133046   整理番号：17A0156808

タイコグラフィーに基づく極端紫外線リソグラフィーによる対物レンズ収差検出技術【JST・京大機械翻訳】

Measurement of Wavefront Aberration of Extreme Ultraviolet Lithographic Projection Lens Based on Ptychography

著者 (7件)： Fang Wei (Laboratory of Information Optics and Opto-Electronic Technology, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Tang Feng (Laboratory of Information Optics and Opto-Electronic Technology, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Wang Xiangzhao (Laboratory of Information Optics and Opto-Electronic Technology, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Zhu Penghui (Laboratory of Information Optics and Opto-Electronic Technology, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Li Jie (Laboratory of Information Optics and Opto-Electronic Technology, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Meng Zejiang (Laboratory of Information Optics and Opto-Electronic Technology, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Zhang Heng (Laboratory of Information Optics and Opto-Electronic Technology, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences)
資料名： Guangxue Xuebao  (Guangxue Xuebao)
巻： 36  号： 10  ページ： 1012002_01-1012002_15  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2088A  ISSN： 0253-2239  CODEN： GUXUDC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： タイコグラフィーは走査型コヒーレント回折イメージングに基づく位相回復技術であり、実験装置は簡単で、アンチジャミング能力が強い。タイコグラフィー技術を,対物レンズ収差を検出するために用い,そして,異なる数値開口の対物レンズ収差を検出するために用いられる,光場伝搬式,離散化条件および実験的構造を,解析した。数値シミュレーションと実験結果により,タイコグラフィー技術は,波収差検出のために,45%~80%の範囲内で,標識検出のために用いる必要があることを示した。標識パターンの複雑性を増加させ,計算過程における登録ステップを増加させることによって,収束速度と検出精度を向上させることができた。波面収差の検出精度は10(-3)Λ以内であった。本論文では,タイコグラフィー技術を用いて,極端紫外線リソグラフィーの対物レンズの収差を検出することが可能であることを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 波面収差 ,  開口数 ,  位相回復 ,  *対物レンズ ,  コヒーレンス ,  *収差 ,  検出法 ,  画像処理
準シソーラス用語： 検出精度 ,  収束速度 ,  複雑性 ,  数値シミュレーション ,  離散化 ,  光学場 ,  *極端紫外線リソグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： measurement ,  extreme ultraviolet lithography ,  wavefront aberration measurement ,  ptychography ,  PIE ,  phase retrieval ,  projection lens

分類 (3件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I) ,  X線回折法  (BK01020I) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： タイコグラフィー ,  極端紫外線リソグラフィー ,  対物レンズ ,  収差 ,  検出技術