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J-GLOBAL ID:201702287140610153   整理番号:17A0142342

擾乱に基づくInPウエハから移動多孔質層【Powered by NICT】

Transferring porous layer from InP wafer based on the disturbance
著者 (11件):
資料名:
巻: 2016  号: 3M-NANO  ページ: 109-112  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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障害に基づくInPウエハからの三次元(3D)多孔質層を移動し,3molL~( 1)NaCl溶液における電流ランプを用いたクロノポテンシオメトリーによるn-InP(100)の電気化学的エッチング中にする新しい方法を示した。ポテンシャルバースト現象は瞬時に起因して観察された。添加では,電位の振幅とInPウエハから分離された多孔質層の間の相関を議論した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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