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J-GLOBAL ID：201702290370933768   整理番号：17A1364975

CeRh₂Si₂の圧力下ドハース・ファンアルフェン効果 II

著者 (5件)： 今井渉 (新潟大 大学院) ,  広瀬雄介 (新潟大 理) ,  仲村愛 (東北大 金属材料研) ,  青木大 (東北大 金属材料研) ,  摂待力生 (新潟大 理)
資料名： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
巻： 72  号： 2  ページ： ROMBUNNO.22pPSA-5  発行年： 2017年09月25日 
JST資料番号： S0671C  ISSN： 2189-079X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *セリウム ,  *ロジウム ,  *ケイ素 ,  *合金 ,  *de Haas-van Alphen効果 ,  *Fermi面 ,  結晶引上法 ,  エレクトロトランスポート ,  焼なまし ,  有効質量 ,  電子 ,  正方晶系 ,  結晶構造 ,  磁気転移 ,  *磁場効果 ,  遍歴電子 ,  反強磁性転移
準シソーラス用語： Ce ,  Rh ,  Si ,  アニール処理

分類 (2件)： 金属結晶の電子構造  (BM02050C) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)