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J-GLOBAL ID:201702290842515692   整理番号:17A0058309

直接光触媒応用のための,Au箔上のMoS2/WS2およびWS2/MoS2垂直積層の温度媒介選択成長

Temperature-Mediated Selective Growth of MoS2/WS2 and WS2/MoS2 Vertical Stacks on Au Foils for Direct Photocatalytic Applications
著者 (18件):
資料名:
巻: 28  号: 48  ページ: 10664-10672  発行年: 2016年12月28日 
JST資料番号: W0001A  ISSN: 0935-9648  CODEN: ADVMEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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Au箔上のMoS2/WS2およびWS2/MoS2積層形成のために,成長温度媒介2段階化学気相堆積法を設計した。支配的なA-A積層MoS2/WS2およびA-B積層WS2/MoS2を選択的に達成し確認した。II型バンド配向により,電極から活性部位への方向性電子流が可能となるため,光照射下で,MoS2/WS2またはWS2/MoS2の光触媒活性に,相対的増大または低下が観測された。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (4件):
分類
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光化学一般  ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  ,  半導体の結晶成長  ,  触媒の調製 

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