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J-GLOBAL ID：201702292049062556   整理番号：17A1219318

N₂吸着を用いた炭素修飾silicalite-1膜の細孔評価

著者 (4件)： 小林玄輝 (早大 先進理工) ,  酒井求 (早稲田大) ,  松方正彦 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 理工研)
資料名： 化学工学会大会(Web)  (化学工学会大会(3支部合同大会)(Web))
巻： 2017  ページ： ROMBUNNO.A108 (WEB ONLY)  発行年： 2017年 
JST資料番号： U1077A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： シリカライト ,  体積 ,  *薄膜 ,  窒素 ,  吸着 ,  炭素 ,  細孔径 ,  水熱合成 ,  無機分離膜 ,  *膜分離 ,  *炭化水素 ,  透過率 ,  シリカライト-1 ,  細孔容積 ,  *ゼオライト膜 ,  膜 ,  アルキルベンゼン ,  アルカン

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

物質索引 (5件)： クメン ,  1-ヘキセン ,  p-キシレン ,  ヘキサン ,  2-メチルペンタン

タイトルに関連する用語 (6件)： N2 ,  吸着 ,  炭素 ,  修飾 ,  細孔 ,  評価