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J-GLOBAL ID：201802289428115426   整理番号：18A0174111

炭素修飾silicalite-1膜上の析出炭素が透過分離性能へ与える影響

著者 (4件)： 小林玄輝 (早大 先進理工) ,  酒井求 (早大 ナノライフ) ,  松方正彦 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 理工総研)
資料名： ゼオライト研究発表会講演予稿集
巻： 33rd  ページ： 91  発行年： 2017年11月30日 
JST資料番号： L1365A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *シリカライト ,  析出 ,  *薄膜 ,  膜透過 ,  *選択透過膜 ,  細孔径 ,  熱分解 ,  水熱合成 ,  化学修飾 ,  焼成 ,  体積 ,  透過率 ,  *シリカライト-1 ,  *ゼオライト膜 ,  細孔容積 ,  アルキルベンゼン ,  アルカン
準シソーラス用語： 炭素析出

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

物質索引 (5件)： p-キシレン ,  1-ヘキセン ,  クメン ,  ヘキサン ,  2-メチルペンタン

タイトルに関連する用語 (5件)： 炭素 ,  修飾 ,  析出 ,  透過 ,  分離性能