特許
J-GLOBAL ID:201803012950127779
レーザドーピング装置及びレーザドーピング方法
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
保坂 延寿
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2015058709
公開番号(公開出願番号):WO2016-151723
出願日: 2015年03月23日
公開日(公表日): 2016年09月29日
要約:
このレーザドーピング装置は、半導体材料の所定領域にパルスレーザ光を照射してドーピングを行うレーザドーピング装置において、所定領域に、ドーパントを含む溶液を供給する溶液供給システムと、ドーパントを含む溶液を透過するパルスレーザ光を出力する少なくとも1つのレーザ装置と、パルスレーザ光のパルス時間波形を調節するパルス時間波形調節装置と、を含むレーザシステムと、を備えてもよい。
請求項(抜粋):
半導体材料の所定領域にパルスレーザ光を照射してドーピングを行うレーザドーピング装置において、
前記所定領域に、ドーパントを含む溶液を供給する溶液供給システムと、
前記ドーパントを含む溶液を透過するパルスレーザ光を出力する少なくとも1つのレーザ装置と、前記パルスレーザ光のパルス時間波形を調節するパルス時間波形調節装置と、を含むレーザシステムと、
を備えるレーザドーピング装置。
IPC (3件):
H01L 21/22
, H01L 21/225
, H01L 21/268
FI (4件):
H01L21/22 E
, H01L21/225 R
, H01L21/268 J
, H01L21/268 T
前のページに戻る