文献
J-GLOBAL ID:200902012079631213
整理番号:92A0431950
a-Si膜の超高圧下横方向固相成長における表面酸化効果
Surface Oxidation Effect in the Lateral Solid Phase Epitaxy of a-Si under Ultra High Pressure.
-
出版者サイト
複写サービスで全文入手
{{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=92A0431950©=1") }}
-
このテーマを更に深掘りする(JDreamⅢへ)
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=92A0431950&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0054A") }}