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J-GLOBAL ID：200902101026135969   整理番号：99A0401319

対向ターゲットスパッタリング装置で作製したBaフェライト薄膜の保磁力と成膜条件との間の関係

Relationship between coercivity and deposition conditions of Ba ferrite films prepared by facing targets sputtering apparatus.

著者 (5件)： MATSUSHITA N (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  FENG J (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  SIOSAWA T (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  NAKAGAWA S (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  NAOE M (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 193  号： 1/3  ページ： 121-123  発行年： 1999年03月 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Baフェライト(BaM)薄膜を標記装置で作製し,Fe<sup...

シソーラス用語： *垂直磁気記録 ,...

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分類 (1件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

タイトルに関連する用語 (7件)： ターゲット ,  スパッタリング装置 ,  作製 ,  Baフェライト ,  薄膜 ,  保磁力 ,  成膜条件