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J-GLOBAL ID：200902104055750329   整理番号：99A0190101

混合ガスを用いた損傷フリーのスパッタリング装置内のプラズマ診断とBaフェライト膜の低基板温度での蒸着

Plasma diagnosis and low-substrate-temperature deposition of Ba ferrite films in a damage-free sputtering apparatus with mixed gases.

著者 (4件)： MATSUSHITA N (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  NOMA K (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  NAKAGAWA S (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  NAOE M (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 51  号： 4  ページ： 543-548  発行年： 1998年12月 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 対向ターゲットスパッタリング装置を用い,Ar+Xe+O<su...

シソーラス用語： *フェライト ,...
準シソーラス用語： 対向ターゲットスパッタリング

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物結晶の磁性  (BM06050E)

タイトルに関連する用語 (7件)： 混合ガス ,  損傷 ,  スパッタリング装置 ,  プラズマ診断 ,  Baフェライト ,  基板温度 ,  蒸着