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J-GLOBAL ID：200902114713605163   整理番号：03A0214837

ECRプラズマCVD法による炭素薄膜の合成

著者 (4件)： 蒲生秀典 (凸版印刷) ,  蒲生(西谷)美香 (JST-CREST) ,  中川清晴 (科学技術振興事業団) ,  安藤寿浩 (JST-CREST)
資料名： 炭素材料学会年会要旨集
巻： 29th  ページ： 276-277  発行年： 2002年12月04日 
JST資料番号： X0940A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ECRプラズマ ,...

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (3件)： ECRプラズマ ,  CVD法 ,  炭素薄膜