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J-GLOBAL ID：200902163018005431   整理番号：94A0736123

磁性薄膜を蒸着するスパッタの物理と技術

Physics and technology of sputtering for depositing magnetic films.

著者 (3件)： NAOE M (Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN) ,  MATSUSHITA N (Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN) ,  NAKAGAWA S (Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 134  号： 2/3  ページ： 395-402  発行年： 1994年06月 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グロー放電中にカソードの表面層で生じるスパッタ現象及び基板に...

シソーラス用語： 磁性薄膜 ,...

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分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (4件)： 磁性薄膜 ,  蒸着 ,  スパッタ ,  物理