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J-GLOBAL ID：200902186596709115   整理番号：02A0622336

大気圧グロー放電による炭素系薄膜合成

Carbon-based Film Deposition under Atmospheric Pressure Glow Discharge.

著者 (3件)： 野崎智洋 (東京工大) ,  木村義人 (東京工大) ,  岡崎健 (東京工大)
資料名： 日本伝熱シンポジウム講演論文集
巻： 39th  号： Vol.1  ページ： 93-94  発行年： 2002年06月05日 
JST資料番号： F0872C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *グロー放電 ,...
準シソーラス用語： 大気圧

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分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (3件)： 大気圧グロー放電 ,  炭素 ,  薄膜