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J-GLOBAL ID：200902188726106143   整理番号：98A0177061

[111]方位Ag膜上でのYBa₂Cu₃O_7-x超伝導薄膜の成長

Growth of YBa₂Cu₃O_7-x Superconducting Thin Films on [111] Oriented Ag Films.

著者 (4件)： OTAKE N (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  MATSUMOTO H (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  ASAI T (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  KATO K (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36  号： 12A  ページ： 7162-7168  発行年： 1997年12月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 軸外れrfマグネトロンスパッタリングによって,標記薄膜を調製...

シソーラス用語： *高温超伝導体 ,...

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分類 (2件)： 酸化物系超伝導体の物性  (BM04023I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (20件)：

• 1) F. Hosono, A. Nomoto, T. Umezawa, M. Seido, T. Matsumoto and K. Aihara: Proc. 3rd Int. Symp. Superconductivity, Sendai, 1990 (Springer, Tokyo, 1990) p. 401.
• 2) J. Shimoyama, T. Morimoto, H. Kitaguchi, H. Kumakura, K. Tagino, H. Maeda, K. Nomura and M. Seido: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) L163.
• 3) K. Hishino and H. Takahara: Jpn. J. Appl. Phys. 28 (1989) L1214.
• 4) T. Kumagai, H. Yamasaki, K. Endo, T. Manabe, H. Niino, T. Tsunoda, W. Kondo and S. Mizuta: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) L1602.
• 5) T. Manabe, I. Yamaguchi, W. Kondo, S. Mizuta and T. Kumagai: Proc. 7th Int. Symp. Superconductivity, Kitakyushu, 1994 (Springer, Tokyo, 1994) p. 589.

タイトルに関連する用語 (4件)： 方位 ,  Ag ,  超伝導薄膜 ,  成長