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J-GLOBAL ID：200902189737467659   整理番号：02A0668312

157nm露光用フォトレジスト材料の開発

著者 (7件)： 藤ケ谷剛彦 (東京工大 大学院) ,  芝崎祐二 (東京工大 大学院) ,  安藤慎治 (東京工大 大学院) ,  上田充 (東京工大 大学院) ,  岸村真治 (松下電器産業) ,  遠藤政孝 (松下電器産業) ,  笹子勝 (松下電器産業)
資料名： 高分子学会予稿集  (Polymer Preprints, Japan)
巻： 51  号： 4  ページ： 722  発行年： 2002年05月10日 
JST資料番号： Z0703B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *フォトレジスト ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (2件)： フルオロスルホニルエテン ,  2-(4-ビニルフェニル)1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2-オール

タイトルに関連する用語 (3件)： 露光 ,  フォトレジスト ,  開発