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J-GLOBAL ID：200902201658654729   整理番号：07A0988917

静水圧印加によるポリイミド薄膜の光吸収スペクトルの変化

著者 (2件)： 脇田潤史 (東京工大 大学院) ,  安藤慎治 (東京工大 大学院)
資料名： 光化学討論会講演要旨集  (Annual Meeting on Photochemistry)
巻： 2007  ページ： 26  発行年： 2007年09月21日 
JST資料番号： L0850A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリアリールエーテルイミド ,...
準シソーラス用語： BPDA-PDA

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分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

物質索引 (1件)： N-[4-(シクロヘキシルメチル)シクロヘキシル]-[4,4′-オキシビス(フタルイミド)]

タイトルに関連する用語 (4件)： 静水圧 ,  印加 ,  ポリイミド薄膜 ,  光吸収スペクトル