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J-GLOBAL ID：200902201865621601   整理番号：07A0551539

ガルビノキシル残基を有する3,5-ビス(ヒドロキシメチル)-4-ベンジルオキシフェニルアセチレンのらせん選択重合とそのキラルポリラジカルの光学活性・磁気特性

著者 (5件)： 片桐寛夫 ,  金子隆司 ,  波多野慎悟 ,  寺口昌宏 ,  青木俊樹
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 87th  号： 2  ページ： 1402  発行年： 2007年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 不斉ポリマーは,新規な高分子構造としてその機能化が期待されて...

シソーラス用語： *アリールオキシルラジカル ,...
準シソーラス用語： *キラル ,...

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分類 (2件)： 重合反応一般  (CG04010H) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (2件)： ガルビノキシル ,  3,5-ビス(ヒドロキシメチル)-4-ベンジルオキシフェニルアセチレン

タイトルに関連する用語 (8件)： ガルビノキシル ,  残基 ,  ビス ,  ヒドロキシメチル ,  らせん ,  重合 ,  光学活性 ,  磁気特性