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J-GLOBAL ID：200902203805600527   整理番号：04A0350767

偏光吸光度法による液晶分子層成長過程における界面での配向秩序のその場観察

著者 (3件)： 田口大 (東京工大 大学院) ,  間中孝彰 (東京工大 大学院) ,  岩本光正 (東京工大 大学院)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 51st  号： 3  ページ： 1410  発行年： 2004年03月28日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ネマチック相 ,...

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分類 (1件)： ネマチック相  (BK03020W)

物質索引 (1件)： 5CB

タイトルに関連する用語 (7件)： 偏光 ,  吸光度法 ,  液晶分子 ,  成長過程 ,  界面 ,  配向秩序 ,  その場観察