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J-GLOBAL ID：200902204316894980   整理番号：08A0334325

アモルファス炭素膜の合成と光学的特性及びガスバリア性の評価

著者 (4件)： 大曽根祐樹 (東京工大 大学院) ,  西英隆 (東京工大 大学院) ,  村上碩哉 (東京工大 大学院) ,  大竹尚登 (名古屋大 大学院)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2008  号： 春季(CD-ROM)  ページ： K22  発行年： 2008年03月03日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜 ,  *炭素材 ,  光学的性質 ,  ガスバリヤ性 ,  *プラズマCVD ,  光透過 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  ケイ素 ,  *薄膜成長 ,  *炭素膜 ,  *アモルファスカーボン ,  薄膜形成 ,  芳香族ポリエステル

分類 (2件)： 気相めっき  (WC08022K) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： アモルファス ,  炭素膜 ,  光学的特性 ,  ガスバリア性 ,  評価