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J-GLOBAL ID：200902205877925687   整理番号：08A0717052

真空紫外光を利用した高分子ゲル表面への高分子グラフト鎖の導入とそのパターニング

著者 (5件)： 今井絢二郎 (名大 院) ,  青島ほずみ (名大 院) ,  鈴木宏昌 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 57  号： 1 Disk1  ページ： 1PH134  発行年： 2008年05月08日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *パターン形成 ,  ゲル ,  *光応答性高分子 ,  *ヒドロゲル ,  表面性状 ,  *グラフト共重合 ,  グラフト共重合体 ,  *ポリビニルピリジン ,  光架橋 ,  薄膜 ,  酸化 ,  原子移動ラジカル重合 ,  原子間力顕微鏡 ,  フォトマスク ,  蛍光顕微鏡 ,  スルホン化 ,  光分解 ,  芳香族アミン ,  スルホニルハロゲニド ,  芳香族縮合化合物 ,  第三アミン ,  ヒドロキシ基 ,  マスク
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  パターンニング ,  表面特性

分類 (3件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  共重合  (CG04030D)

物質索引 (3件)： ダンシルクロリド ,  4-ビニルピリジン ,  2-クロロプロパン酸クロリド

タイトルに関連する用語 (4件)： 高分子ゲル ,  高分子 ,  グラフト鎖 ,  パターニング