文献

J-GLOBAL ID：200902206671502069   整理番号：07A1014738

ジアセチレン蒸着膜の作製と円偏光照射によるキラリティー誘起:基板温度依存性

著者 (4件)： 金英輝 (東京工大 大学院) ,  大嶋優記 (東京工大 大学院) ,  間中孝彰 (東京工大 大学院) ,  岩本光正 (東京工大 大学院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 68th  号： 3  ページ： 1228  発行年： 2007年09月04日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *蒸着膜 ,...

   このテーマを更に深掘りする（JDreamⅢへ）  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=07A1014738&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0055A") }}

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： ジアセチレン

タイトルに関連する用語 (7件)： ジアセチレン ,  蒸着膜 ,  作製 ,  円偏光 ,  キラリティー ,  誘起 ,  温度依存性