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J-GLOBAL ID：200902208914689530   整理番号：09A0103256

マルチアングルエリプソメトリーによる高分子薄膜の構造解析

著者 (4件)： 阿多誠介 (東京工大 大学院) ,  伊藤賢志 (産業技術総合研) ,  小林慶規 (産業技術総合研) ,  扇澤敏明 (東京工大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 57  号： 2 Disk1  ページ： 2PC055  発行年： 2008年09月09日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,  *構造解析 ,  *偏光解析法 ,  高次構造 ,  分極率 ,  角度依存性 ,  ポリスチレン ,  依存性 ,  膜厚依存性

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  ポリスチレン  (YH07120V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 高分子薄膜 ,  構造解析