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J-GLOBAL ID：200902209859322431   整理番号：07A0948700

パルスプラズマCVD法によるアモルファス炭素膜の合成と酸素透過率評価

著者 (4件)： 大曽根祐樹 (東京工大 大学院) ,  西英隆 (東京工大 大学院) ,  村上碩哉 (東京工大 大学院) ,  大竹尚登 (名古屋大 大学院)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2007  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： C63  発行年： 2007年09月03日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： プラズマCVD ,...
準シソーラス用語： パルスプラズマCVD

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルス ,  プラズマCVD法 ,  アモルファス ,  炭素膜 ,  酸素透過率 ,  評価