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J-GLOBAL ID：200902210229689629   整理番号：09A1032743

ポリスチレン薄膜の面配向に関する研究

著者 (4件)： 阿多誠介 (東京工大 大学院) ,  伊藤賢志 (産業技術総合研) ,  小林慶規 (産業技術総合研) ,  扇澤敏明 (東京工大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 58  号： 2 Disk1  ページ： ROMBUNNO.1G-15  発行年： 2009年09月01日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリスチレン ,  *高分子薄膜 ,  高分子鎖 ,  立体配座 ,  流延成形 ,  *分子配向 ,  偏光解析法 ,  屈折率 ,  時間依存性 ,  膜厚 ,  反射率 ,  分極率 ,  X線反射率
準シソーラス用語： コンフォメーション ,  *配向【分子】 ,  エリプソメトリー

分類 (2件)： 高分子の立体構造  (CG02031G) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (4件)： ポリスチレン ,  薄膜 ,  配向 ,  研究