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J-GLOBAL ID：200902210680423861   整理番号：08A0716505

ブロックコポリマー/液晶ハイブリッド単分子膜の高秩序ナノパターンを用いた高分子表面加工

著者 (3件)： 谷口大介 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 57  号： 1 Disk1  ページ： 1PA121  発行年： 2008年05月08日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 高分子膜 ,  Langmuir-Blodgett膜 ,  真空紫外線 ,  モルフォロジー ,  ポリビニルピリジン ,  ポリスチレン ,  ルテニウム化合物 ,  *ブロック共重合体 ,  転写 ,  *両親媒性高分子 ,  光酸化 ,  *ナノ構造 ,  表面構造 ,  酸化ルテニウム ,  *液晶 ,  高分子複合体 ,  フォトマスク ,  ポリメタクリル酸メチル ,  プラスチックフィルム ,  パターン形成 ,  ミセル ,  微細構造 ,  アスペクト比 ,  芳香族ニトリル ,  単分子膜 ,  構造 ,  マスク

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (2件)： 5CB ,  6-[4-(4-ヘキシルフェニルアゾ)フェノキシ]ヘキサン酸

タイトルに関連する用語 (5件)： ブロックコポリマー ,  液晶 ,  単分子膜 ,  ナノパターン ,  高分子表面