文献

J-GLOBAL ID：200902211116339210   整理番号：06A0969938

マイクロプラズマを使ったシリコン量子ドットの気相合成

Synthesis of nc-Si dot in microplasma

著者 (4件)： 野崎智洋 (東京工大) ,  朝日大介 (東京工大) ,  佐々木健二 (東京工大) ,  岡崎健 (東京工大)
資料名： 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM)
巻： 43rd  ページ： F122  発行年： 2006年 
JST資料番号： F0872D  ISSN： 1346-1532  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： サブミリスケールのマイクロプラズマリアクタで高密度非平衡プラ...

シソーラス用語： 微細構造 ,...
準シソーラス用語： *シリコン ,...

   このテーマを更に深掘りする（JDreamⅢへ）  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=06A0969938&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0872D") }}

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  半導体の結晶成長  (BK13040X)

タイトルに関連する用語 (4件)： マイクロプラズマ ,  シリコン ,  量子ドット ,  気相合成