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J-GLOBAL ID：200902213799296220   整理番号：05A0941019

ポリイミド薄膜の熱光学係数とその偏波依存性の解析[V]分子配向と残留応力の評価による異方性発現機構の解析

著者 (3件)： 照井貴陽 (東京工大 大学院) ,  大石好行 (岩手大 工) ,  安藤慎治 (東京工大 大学院)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 54  号： 2 Disk1  ページ： 1O04  発行年： 2005年09月05日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリイミド ,...

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分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (9件)： ポリイミド薄膜 ,  光学 ,  係数 ,  偏波依存性 ,  解析 ,  分子配向 ,  残留応力 ,  評価 ,  異方性