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J-GLOBAL ID：200902214789776735   整理番号：07A0044445

マイクロ波プラズマ化学気相成長法による炭素薄膜の合成

著者 (9件)： 島田健太郎 (東洋大 大学院) ,  島田健太郎 (物質・材料研究機構 物質研) ,  蒲生秀典 (凸版印刷 総研) ,  柴崎健 (東洋大 大学院) ,  蒲生(西谷)美香 (東洋大 大学院) ,  蒲生(西谷)美香 (東洋大 先端光応用計測セ) ,  中川清晴 (東洋大 先端光応用計測セ) ,  中川清晴 (物質・材料研究機構 物質研) ,  安藤寿浩 (物質・材料研究機構 物質研)
資料名： 表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 113th  ページ： 5  発行年： 2006年03月08日 
JST資料番号： Y0050A  ISSN： 0917-2947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜 ,...
準シソーラス用語： 圧力依存性

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分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (3件)： マイクロ波プラズマ ,  化学気相成長法 ,  炭素薄膜