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J-GLOBAL ID：200902217612147095   整理番号：05A1027314

フォトカルシネーションを利用したクラックフリーなナノポーラス薄膜の作製

著者 (4件)： 穂積篤 (産業技術総合研) ,  小島智之 (名古屋大 大学院) ,  永野修作 (名古屋大 大学院) ,  関隆広 (名古屋大 大学院)
資料名： 表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 112th  ページ： 155  発行年： 2005年09月16日 
JST資料番号： Y0050A  ISSN： 0917-2947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： クラック ,  ナノポーラス ,  薄膜 ,  作製