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J-GLOBAL ID：200902220473550867   整理番号：08A0462733

ブロック共重合体単分子膜のナノパターン形成と高分子表面加工への応用

著者 (3件)： 谷口大介 (名大 院) ,  永野修作 (名大 院) ,  関隆広 (名大 院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 88th  号： 1  ページ： 584  発行年： 2008年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ポリスチレン-block-ポリ(4-ビニルピリジン)と液晶性低分子化合物を水面に共展開し,混合LB膜を得た。この表面ミセル膜に四酸化ルテニウム染色処理を施し,真空紫外光による酸化処理を行ったところ,染色した膜は,酸化処理によってもモルフォロジーを維持できることがわかった。さらに,この表面ミセル膜をマスクとして用いたPMMA膜の表面加工を検討した。(著者抄録)

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *単分子層 ,  *ポリスチレン ,  *P4VP ,  *ナノ構造 ,  *パターン形成 ,  *高分子加工 ,  *表面構造 ,  *ミセル形成 ,  高分子膜 ,  真空紫外線 ,  紫外線照射 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  スピンコーティング ,  フォトマスク ,  鋳型材料 ,  複合膜 ,  液晶 ,  Langmuir-Blodgett膜 ,  *構造 ,  マスク

分類 (3件)： 界面化学一般  (CB12010J) ,  高分子の物性一般  (CG02001Z) ,  光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (5件)： ブロック共重合体 ,  単分子膜 ,  ナノパターン形成 ,  高分子表面 ,  応用